1. Permukaan ruang akan sentiasa "ditulis semula"
Setiap proses PVD akan meninggalkan kesan di dalam ruang.
Jejak ini terutamanya berasal dari:
Pemendapan bahan terpercik dari sasaran, lekatan dan pengumpulan produk tindak balas, liputan berselang-seli bagi pelbagai bahan
Dari masa ke masa, dinding dalam ruang bukan lagi logam asal, tetapi lapisan filem komposit yang sentiasa ditumpangkan dan berkembang.
Lebih penting lagi, filem ini tidak "stabil" dan akan terus mengambil bahagian dalam proses seterusnya, seperti-reman, penyusunan semula dan-reaksi semula.
Dalam erti kata lain, permukaan ruang itu sendiri telah menjadi sebahagian daripada proses pembuatan.
2. Persekitaran gas juga "diingati"
Ruang itu bukan sahaja "filem berkembang", tetapi juga "penahan udara".
Wap air, oksigen, dan gas proses sisa akan terus terserap pada permukaan ruang.
Dalam proses seterusnya, gas ini mungkin dibebaskan dan-masuk semula ke plasma.
Ciri-ciri proses ini ialah:
Tidak boleh dikawal sepenuhnya. Sangat berkaitan dengan suhu, masa dan status pelepasan. Perbezaan akan berlaku dalam kelompok yang berbeza.
Hasilnya ialah:
Walaupun kadar aliran gas ditetapkan untuk konsisten, suasana yang sebenarnya terlibat dalam tindak balas mungkin berbeza.
3. Laluan Pelepasan Secara Berperingkat "Membaiki"
Pelepasan tidak stabil dari awal; sebaliknya, ia secara beransur-ansur membentuk struktur sepanjang-operasi jangka panjang.
Apabila proses diulang: Sesetengah wilayah lebih mudah mengekalkan pelepasan; yang lain secara beransur-ansur melemah; pengedaran plasma cenderung ke arah "laluan kebiasaan." Proses ini pada asasnya mewujudkan "struktur yang stabil."
Setelah terbentuk, ia akan memberi kesan berterusan pada proses seterusnya.
4. Mengapakah masalah berkemungkinan besar berlaku apabila menukar proses?
Apabila proses ditukar, "keadaan mantap" asal terganggu: Bahan baharu meliputi lapisan deposit lama; sistem gas berubah; struktur plasma diagihkan semula. Namun begitu, perubahan ini bukanlah serta merta sebaliknya merupakan proses peralihan.
Semasa proses ini: Sistem tidak berada dalam "keadaan lama" dan tidak juga memasuki "keadaan mantap baharu."
Oleh itu, fenomena biasa berlaku: Beberapa kelompok pertama menunjukkan turun naik yang ketara, diikuti dengan penstabilan beransur-ansur.
5. Mengapakah pembersihan sama dengan "menetapkan semula memori"?
Fungsi pembersihan bukan sahaja untuk menghilangkan kotoran, tetapi yang lebih penting, untuk:
Keluarkan deposit
Mengganggu keseimbangan penjerapan gas
Tetapkan semula laluan pelepasan
Dari perspektif sistem, ia bersamaan dengan:
Membersihkan sepenuhnya-keadaan terkumpul jangka panjang.
Jadi selepas pembersihan:
Pengalaman kraf asal tidak lagi terpakai sepenuhnya dan baki baharu perlu-diwujudkan semula.
6. Pemahaman yang Lebih Asas
Jika kita meringkaskan fenomena ini dalam satu ayat, ia boleh difahami seperti berikut: Sistem PVD bukanlah "sistem input/output tanpa ingatan," sebaliknya sistem dinamik yang terus dipengaruhi oleh sejarah.
Parameter hanyalah sebahagian daripada input, manakala "keadaan ruang" itu sendiri ialah pembolehubah tersirat yang sentiasa berubah.
7. Rumusan
Pembentukan "memori keadaan" ruang pada dasarnya berpunca daripada tiga-proses bertindih jangka panjang: evolusi berterusan lapisan mendapan dinding dalam, kitaran berterusan penjerapan dan pelepasan gas, dan pemejalan beransur-ansur laluan nyahcas semasa proses berulang. Faktor-faktor ini bekerjasama untuk menjadikan sistem mempamerkan "kebergantungan sejarah" yang jelas.
8. Kesimpulan utama: Keadaan nyahcas yang anda lihat setiap kali sebenarnya bukanlah hasil daripada parameter semasa, tetapi superposisi parameter semasa dan keadaan terkumpul sejarah.
